循环水结垢与腐蚀控制; 工业微生物与黏泥控制; 设备清洗、检修与预膜
根据实际循环系统的材质和工况，统筹沉积控制、缓蚀及微生物管理。
按补水水质和浓缩倍数比较阻垢分散、缓蚀与微生物控制方案。 出现相应问题时，分别评估清洗、预膜和消泡需求。
从处理目标、药剂作用到验证依据逐项对照。 表内产品可能属于替代路线或不同工序，不表示需要一起投加。
请提供补水与循环水数据、系统材质、浓缩条件、温度及现行处理方案。 协调水质、材料保护和系统维护要求，据此筛选产品及规格。
开式、闭式和芯片侧冷却回路应分别选型。 配方须与系统材质、温度及在用药剂相容。
| 处理目标 / 环节 | 可以比较的产品路线 | 为什么适配 / 适用条件 | 选型前需要核对 |
|---|---|---|---|
| 循环水结垢与腐蚀控制缓蚀与阻垢按此目标筛选 | 区分可直接应用的成品配方与配方用原料。 核对补水水质、浓缩倍数、金属材质、温度和排放要求。 逐产品查看作用与条件
| 查看对应产品的确认项目
用代表性水样或现场数据比较结果，保留试验方法和工况。 | |
| 工业微生物与黏泥控制消毒与微生物控制按此目标筛选 | 根据实际登记用途和材料相容性区分不同活性成分。 工业药剂不能直接用作饮用水处理剂或液冷系统药剂。 逐产品查看作用与条件
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用代表性水样或现场数据比较结果，保留试验方法和工况。 | |
| 设备清洗、检修与预膜清洗与预膜按此目标筛选 | 明确清洗目标、配方和材料。 螯合剂用于控制金属离子，不代表污染金属已从废水中分离。 逐产品查看作用与条件
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用代表性水样或现场数据比较结果，保留试验方法和工况。 | |
| 泡沫与下游工艺相容性消泡与工艺辅助按此目标筛选 | 评估泡沫来源、温度，以及涉及的生物处理、膜处理或涂装工艺。 选型既要看初始消泡效果，也要考虑对后续工序的影响。 逐产品查看作用与条件
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用代表性水样或现场数据比较结果，保留试验方法和工况。 |
同一需求可能对应不同的处理路线。 展开产品适配说明，了解其作用、适用条件和采购核对项。
专用配方为开放式循环冷却水选择成品阻垢缓蚀配方，连接补水、系统材料与运行条件。
基础原料有机膦类水处理原料，用于相应阻垢、金属离子控制和复配体系。
基础原料有机膦类配方原料，为具体工业水路的阻垢及金属离子控制提供选择。
基础原料DTPMPA有机膦类配方原料，服务于具体工业水系统的阻垢、分散或金属离子管理需求。
基础原料PBTC有机膦类配方原料，服务于具体工业水系统的阻垢、分散或金属离子管理需求。
基础原料PAPEMP有机膦类配方原料，服务于具体工业水系统的阻垢、分散或金属离子管理需求。
基础原料HPAA有机膦类配方原料，服务于具体工业水系统的阻垢、分散或金属离子管理需求。
基础原料EDTMPS有机膦类配方原料，服务于具体工业水系统的阻垢、分散或金属离子管理需求。
基础原料PAA/PAAS聚合物原料，为相应阻垢、分散和复配水处理体系提供组分选择。
基础原料HPMA聚合物原料，为相应阻垢、分散和复配水处理体系提供组分选择。
基础原料AA/AMPS聚合物原料，为相应阻垢、分散和复配水处理体系提供组分选择。
基础原料PASP聚合物原料，为相应阻垢、分散和复配水处理体系提供组分选择。
基础原料PESA聚合物原料，为相应阻垢、分散和复配水处理体系提供组分选择。
基础原料用于相应水处理及工业配方的聚磷酸盐原料，配合金属离子管理与分散需求。
基础原料硅酸盐类缓蚀及配方组分，为特定水质和管材条件提供选择。
专用配方铜及铜合金系统的缓蚀组分选择，可与完整工业水处理配方衔接。
专用配方季铵盐类活性物选择，服务于适用的工业微生物控制和配方采购。
专用配方以CMIT/MIT为活性物路线的工业微生物控制选择，按系统水路和使用目的匹配产品。
基础原料以BIT为活性物路线的工业微生物控制选择，按系统水路和使用目的匹配产品。
专用配方以戊二醛为活性物路线的工业微生物控制选择，按系统水路和使用目的匹配产品。
专用配方以DBNPA为活性物路线的工业微生物控制选择，按系统水路和使用目的匹配产品。
专用配方以THPS为活性物路线的工业微生物控制选择，按系统水路和使用目的匹配产品。
专用配方以溴系活性物为活性物路线的工业微生物控制选择，按系统水路和使用目的匹配产品。
基础原料面向供水、污水及工业水中适用的消毒环节，提供与液体投加系统衔接的氯源。
专用配方工业循环水生物膜与黏泥管理的配套药剂，与相应杀菌程序协同选择。
专用配方面向无机垢、有机沉积和油污的工业设备清洗配方选择。
专用配方面向工业系统开车与检修的清洗预膜配方，衔接污垢处理和材料保护。
专用配方为特定无机垢清洗配方提供氨基磺酸原料，按设备材质与污垢选择。
基础原料为膜或设备的指定清洗程序提供有机酸原料选择。
基础原料用于适用工业清洗和配方体系的金属离子控制，为螯合组分采购提供选择。
基础原料EDTA酸型螯合原料，为清洗和工业配方中的金属离子管理提供选择。
基础原料EDTA二钠盐，用于相应清洗和配方中的金属离子控制。
基础原料EDTA四钠盐，为适用配方中的金属离子络合与清洗需求提供原料选择。
基础原料GLDA螯合原料，为适用清洗及配方中的金属离子控制提供选择。
基础原料MGDA螯合原料，为适用清洗及配方中的金属离子控制提供选择。
基础原料IDS螯合原料，为适用清洗及配方中的金属离子控制提供选择。
基础原料为清洗及相关工业配方提供聚磷酸盐组分，服务于金属离子控制与分散需求。
基础原料磷酸盐原料，为适用的锅炉、清洗及工业配方程序提供组分选择。
专用配方有机硅路线消泡配方，面向适配的工业水和废水泡沫控制环节。
专用配方聚醚路线消泡配方，按介质和运行温度选择相应工业水处理产品。
专用配方非硅路线消泡配方，为对硅组分有特定要求的水路提供选择。
可尝试其他处理目标或产品类型，也可把实际工况发给我们。
行业参考资料介绍的是一般用途。 具体产品规格、认证和应用效果需以对应的供应商文件为依据。
循环水经常同时受到结垢、腐蚀和微生物的影响。 按补水、材料及运行条件选择药剂，更能反映系统实际需求。
请提供补水与循环水数据、系统材质、浓缩条件、温度及现行处理方案。 协调水质、材料保护和系统维护要求，据此筛选产品及规格。
开式、闭式和芯片侧冷却回路应分别选型。 配方须与系统材质、温度及在用药剂相容。 不代表存在通用投加量或通用处理效果。 候选产品可能承担主要、配套、有条件适用或替代作用。
告诉我们应用场景、目前使用的产品或采购需求，共同确定适合的供货方案。
